TAU kehittää interferenssikuvuvion avulla tehtävää reaktiivista pintakuviontitekniikkaa ylikriittisessä hiilidioksidissa. Tarkoituksena on valmistaa oksidirakenteita korkeassa paineessa hiilidioksidin toimisessa lähtöaineena ja lähtöaineen kantajajana. Tutkimuksessa yhdistyy kaksi lupaavaa tutkimusaluetta: hiilidioksidin avulla tapahtuva keraamiprosessointi ja interferenssikuvionti.
Lisätietoja projektin nettisivuilla: Linkki
Rahoituslähde
H2020-FETOPEN
Koordinoiva organisaatio
University of Sheffield, UK
Partnerit
Asociacion Centro Technologico Ceit-IK4, Espanja
Tampereen yliopisto, Suomi
University of Bedfordshire, UK
InnoLas Laser GmbH, Saksa